光刻機(jī)是將電路圖樣復(fù)制到硅片上的設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造。其工作原理遵循光刻膠成像和蝕刻工藝，包括：涂布光刻膠。掩模對(duì)準(zhǔn)。曝光。顯影。蝕刻。去膠。

光刻機(jī)的作用

光刻機(jī)是用于半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，其作用是將設(shè)計(jì)好的電路圖樣復(fù)制到硅片上，為后續(xù)的芯片加工步驟奠定基礎(chǔ)。

光刻機(jī)的工作原理

光刻機(jī)的核心原理遵循光刻膠成像和蝕刻工藝。其工作流程如下：

1. 涂布光刻膠：在硅片表面均勻涂布一層光刻膠。
2. 掩模對(duì)準(zhǔn)：將包含電路圖樣的掩模與硅片精確對(duì)齊。
3. 曝光：將特定波長的紫外光投射到掩模上，通過掩模圖案上的透明區(qū)域照射在光刻膠上。
4. 顯影：將曝光后的光刻膠進(jìn)行化學(xué)顯影，被紫外光照射的部分溶解并被沖走，形成與掩模圖案相對(duì)應(yīng)的抗蝕刻層。
5. 蝕刻：使用刻蝕劑對(duì)裸露的硅片表面進(jìn)行刻蝕，去除光刻膠未遮擋的部分，從而在硅片上形成預(yù)期的電路結(jié)構(gòu)。
6. 去膠：移除殘留在電路結(jié)構(gòu)上的光刻膠，完成整個(gè)光刻工藝。

光刻機(jī)的分類

光刻機(jī)根據(jù)所用光源的不同，主要分為兩種類型：

• 接觸式光刻機(jī)：掩模直接接觸硅片表面進(jìn)行曝光。
• 投影式光刻機(jī)：掩模與硅片之間存在一定的間隙，紫外光通過透鏡系統(tǒng)投影到硅片上進(jìn)行曝光。投影式光刻機(jī)精度更高，可實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的電路圖案。