光刻機(jī)品牌主要分為三類：美國(guó)（asml、kla、應(yīng)用材料）、荷蘭（asml）、日本（尼康、佳能、東京電子）。其中，asml在全球市場(chǎng)份額超過(guò)90%，占據(jù)主導(dǎo)地位。

光刻機(jī)品牌分類

光刻機(jī)是制造半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵設(shè)備，負(fù)責(zé)將芯片的電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。以下是光刻機(jī)品牌的分類：

1. 美國(guó)

• ASML
• KLA
• 應(yīng)用材料（Applied Materials）

2. 荷蘭

• ASML

3. 日本

• 尼康（Nikon）
• 佳能（Canon）
• 東京電子（Tokyo Electron）

4. 中國(guó)

• 上海微電子裝備（SMEE）
• 北方華創(chuàng)
• 中微半導(dǎo)體設(shè)備（AMEC）

5. 其他

• 德國(guó)蔡司（Carl Zeiss）
• 瑞士西門子（Siemens）
• 韓國(guó)三星

需要注意的是，ASML在全球光刻機(jī)市場(chǎng)占據(jù)主導(dǎo)地位，擁有超過(guò)90% 的市場(chǎng)份額。